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海南七星彩规律图撕破美国封锁线!中科院造出最强芯片设备,10nm芯片来了

满地红彩色图库 2018-12-01 10:40 出处:网络 编辑:@iCMS
智东西11月30日消息,昨天,中国芯片产业取得了重大突破!中科院宣布,经过7年由中国科学院光电技术研究承担研究的“超分辨光刻装备项目”正式在成都通过验收,这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备,能够在

智东西11月30日消息,昨天,中国芯片产业取得了重大突破!

中科院宣布,经过7年由中国科学院光电技术研究承担研究的“超分辨光刻装备项目”正式在成都通过验收,这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备,能够在365nm的波长下完成22nm工艺芯片的生产,还能通过多重曝光等手段实现10nm以下工艺的芯片生产。

撕破美国封锁线!中科院造出最强芯片设备,10nm芯片来了


最重要的是,这套光刻机绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒,形成了一条全新的纳米光学光刻工艺路线,具有完全自主知识产权。

那么这套光刻机究竟牛在哪?我们为什么要关注它?中国的芯片产业跟国外前沿差多少?这台光刻机能改变什么?这些问题,本文将一一解答。

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光刻机:中国的“芯”痛

芯片产业可以分为设计制造封装三大流程,在这大三领域里,我国在设计与封装方面进展尚可,如海思等少数龙头企业还能够与国际一线玩家共台竞技。

然而在芯片的制造领域,却是另一个故事。

受制于自身起步较慢与国外的技术封锁,中国大陆的芯片制造领域与国外先进技术相差巨大。目前台积电的7nm芯片已经量产,而技术最领先的玩家——中芯国际——在前阵子才刚刚宣布14nm工艺开始导入客户,与台积电相差了至少2-3代工艺。

而在芯片制造的各个环节当中,光刻机又是一项重中之重的设备,其重要地位仿佛冠上明珠。

简单来说,芯片制造的过程就是将芯片设计的“图纸”复原在硅片,并保证这块芯片能够实现预设的功能。

芯片制造的环节也有很多,包括光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等。

而这其中,光刻又是生产流程中最复杂、最关键、耗时最长(几乎一半时间)、成本最高(约占芯片生产成本1/3)的工艺步骤,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。

然而,我国光刻设备研究现况不容乐观。由于自身起步较慢、国内产研环境又差,我国的光刻设备研发一直处在落后地步。

目前全球最强大的光科技设备厂商为荷兰ASML,其设备已经能进行7nm工艺制造,单价达到近一亿欧元。而我国最先进的设备为上海微电子光刻机,最高工艺制程为90nm。

那么研发不成,我们能买设备、买技术吗?

很不幸,不可以。

从1949年开始,西方国家就陆续通过“巴黎统筹委员会”、“瓦森纳协定”来限制相关国家出口敏感技术和产品,中国正是一个重要的限制对象。

这些协议规定,半导体等相关技术与产品批准出口的技术通常比最先进的晚两代,如果再加上中间落地手续一繁复,分分钟出现“刚引进就落后”的局面。更有甚者,在摩尔定律每18-24个月算力翻番的驱动下,这些被封用引进的国外技术会迅速变成废铁。

而且最坑的是,有些技术我们不是不能做出来,但是由于国外早早就申请注册了专利,因此就算独立研发出来了相关设备,也不能投入生产,否则将面临巨额的罚款与制裁——君不见当年中芯国际因此痛失创始人张汝京。

因此,虽然这套光刻设备并不是全球最前沿的技术、离直接拉进工厂开始生产也还有一段距离,但是它的验收完成就意味着,中国在光刻机领域首次有了如此重大的突破!

而且这套光刻机绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒,在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条成本更低、更大面积的纳米光刻装备研发新路线,中国具有完全自主知识产权。(目前市面上常用第五代EUV 光刻机,使用波长13.5nm的极紫外光)


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